因為美國針對華為芯片禁令的緣故，導致華為因此而大受損傷，甚至于華為都為此損失一個榮耀子品牌，這也是沒有辦法的事情，畢竟華為也只能通過這樣的方式去棄車保帥，所以只能忍痛割愛將榮耀這個品牌給出售掉去。
最近，華為招聘光刻工藝工程師的消息流傳開來，華為要自行開發(fā)光刻機的消息不脛而走，消息是真的嗎?華為雖然沒有對此發(fā)表評論，但是如果華為真的想開發(fā)自己的光刻機，那將是極其不可靠的商業(yè)冒險。荷蘭媒體：為何說華為自研光刻機不可取，這個重要原因不容忽視!
華為開發(fā)光刻機會將遇到復雜的問題，復雜的結構和復雜的技術體系。普通的DUV光刻機高達30,000個機械零件，遠比汽車零件要復雜得多。這還不算什么，世界上最先進的EUV光刻機零件數(shù)量高達100,000，這絕非華為這樣的門外漢能夠搞明白的技術。
然而與技術系統(tǒng)的復雜性相比，光刻機的結構復雜性根本不算什么。光刻機是由最先進的高精度機械、電子和光學系統(tǒng)的集成，并且要求每個系統(tǒng)沒有缺點并且達到世界上最頂尖，這是因為光刻機對零件和組件的質量有很高的要求，所以說如果華為想要自研光刻機的話，就必須要在這些領域都做到頂尖，做不到的話，其他國家可不愿意將零件賣給華為。
這就是ASML集團和尼康、佳能等日本光刻機制造商之間的分水嶺。上個世紀，ASML在液浸光刻時代擊敗了老霸主尼康，并一直稱霸至今，他所構建的模式是全世界任何其他企業(yè)都無法模仿的，并且很難有企業(yè)能夠追平ASML更別說超越。
華為自行開發(fā)的光刻機意味著將遵循尼康的模式，承擔70%以上零件的制造。但華為在光學和精密機械領域為零積累，因此華為幾乎不可能光刻機成功。在當前的貿易環(huán)境中，再加上《瓦森納爾協(xié)議》的限制，華為無法購買所需的零件。
并且，ASML已經形成了寡頭壟斷。整個光刻機相關產業(yè)鏈上的巨頭們組合建立起來的行業(yè)壁壘，華為一個人不可能繞過專利墻。沒有專利授權，一個一個地克服肯定是不現(xiàn)實的。這也是為什么說華為進行自研光刻機是一件很不靠譜的行為。當然，我想華為肯定有自己的考慮，以上內容也只是給大家進行一個小科普而已。
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